崗位職責：

1.負責先進邏輯節(jié)點OPC開發(fā)；

2.從事SMO優(yōu)化仿真，OPC model calibration，recipe開發(fā)，以及mask設計和 整合，tapeout等；

3.與Litho，Etch，Mask，PIE，DR等相關部門緊密合作，了解工藝需求，給出OPC解決方案；

4.進行計算光刻先進方法的研究和開發(fā)以及EDA tool 的驗證等。

崗位要求：

1.本科及以上學歷，光學、電子/電氣工程、半導體物理專業(yè)更佳；

2.光刻或OPC開發(fā)背景， 具有較強的光刻理論基礎，熟悉腳本語言或C-API；

3.掌握 patterning 工藝和設計規(guī)則，具有先進節(jié)點Litho或OPC經驗優(yōu)先；

4.良好的溝通能力，以及項目執(zhí)行能力。