崗位職責(zé)：

1.負(fù)責(zé)先進(jìn)邏輯制程的光刻工藝開(kāi)發(fā)；

2.Litho Patterning 開(kāi)發(fā)，光源、光刻材料、Mask的評(píng)估， 光刻工藝優(yōu)化等；

3.Litho Mark的設(shè)計(jì)和整合，Overlay 量測(cè)方法的評(píng)估和優(yōu)化；

4.發(fā)現(xiàn)和解決光刻相關(guān)的缺陷，維護(hù)研發(fā)產(chǎn)品的運(yùn)行；

5.下一節(jié)點(diǎn)的 Patterning pathfinding, 光刻工藝預(yù)研等。

崗位要求：

1.本科及以上學(xué)歷，光學(xué)、電子/電氣工程、半導(dǎo)體物理專業(yè)更佳；

2.具有光刻相關(guān)的背景；

3.具有先進(jìn)邏輯節(jié)點(diǎn)光刻工藝開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先；

4.良好的溝通能力，以及項(xiàng)目執(zhí)行能力。